Защитные диэлектрические пленки в планарной технологии
На таких МДП-структурах измеряют вольтфарадные характеристики. По сдвигу между теоретической и экспериментальной вольтфарадной характеристиками можно непосредственно определить эффективную плотность поверхностных состояний, в которую входят плотность поверхностных состояний на границе полупроводник — защитная пленка и заряд в пленке.
Скачать рефератДругие рефераты на тему «Производство и технологии»:
- Разработка технологического процесса термической обработки стальной детали. Болт шатунный
- Разработка требований к автоматизации процесса испытаний стали арматурной
- Автоматический литейный конвейер
- Кинематический и силовой расчет механизма долбежного станка с качающейся кулисой
- Автоматизация линии упаковки
Поиск рефератов
Loading
Последние рефераты раздела
- Технологическая революция в современном мире и социальные последствия
- Поверочная установка. Проблемы при разработке и эксплуатации
- Пружинные стали
- Процесс создания IDEFO-модели
- Получение биметаллических заготовок центробежным способом
- Получение и исследование биоактивных композиций на основе полиэтилена высокой плотности и крахмала
- Получение титана из руды